光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来,由于技术创新发展,对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切,如超大型电路之研究制造,已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目。
净化工程
一、组合式空气处理机组+冷水机组+高效送风口
1、优点: A、空气处理效果好。 B、比较适用于有集中冷源的或是较大的净化车间。 C、空调冷热源可与厂房普通空调系统合用或独立冷热源。 D、维修频率较低。 E、车间的噪音低。 2、缺点: A、需要有配套的冷冻机房或有放置热泵机组的室外空间。 B、造价高。
净化工程
二、光学微电子行业净化工程设计方案分析之水冷柜机+增压风柜+高效送风口
1、优点: A、空气处理效果较好的,处理过后的空气在送风过程中被污染程度低。 B、布置灵活。自带冷源。 C、大小厂房、新旧厂房都适用。 D、维修频率较低。 E、车间噪音低。 2、缺点: A、需要小面积的机房。需要有冷却塔、冷却水泵的摆放位置。 B、空调机组与空调处理机组要集中布置。 C、造价较低。
净化工程
三、光学微电子行业净化工程设计方案分析之分体空调柜机++FFU送风口
1、优点: A、不需要占用机房面积,布置灵活。 B、可以满足空气的洁净度。 C、造价最低。 D、送风均匀度好。 2、缺点: A、温湿度控制较差。 B、可以满足空气的洁净度。 C、FFU的维修频率高。
净化工程
四、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点
1、洁净度: LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检 2、室内空气参数要求: A、温湿度要求:温度一般为24+2℃,相对湿度为55+5%。 B、新风量大。 C、送风量大。 净化工程的设计过程中,应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据光学微电子净化工程是新建工程或者是旧厂房改造工程,并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况,同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力,综合各种因素来确定采用何种净化方案,这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。 |
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