光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目。

净化工程

　　一、组合式空气处理机组+冷水机组+高效送风口

　　1、优点：

　　A、空气处理效果好。

　　B、比较适用于有集中冷源的或是较大的净化车间。

　　C、空调冷热源可与厂房普通空调系统合用或独立冷热源。

　　D、维修频率较低。

　　E、车间的噪音低。

　　2、缺点：

　　A、需要有配套的冷冻机房或有放置热泵机组的室外空间。

　　B、造价高。

净化工程

　　二、光学微电子行业净化工程设计方案分析之水冷柜机+增压风柜+高效送风口

　　1、优点：

　　A、空气处理效果较好的，处理过后的空气在送风过程中被污染程度低。

　　B、布置灵活。自带冷源。

　　C、大小厂房、新旧厂房都适用。

　　D、维修频率较低。

　　E、车间噪音低。

　　2、缺点：

　　A、需要小面积的机房。需要有冷却塔、冷却水泵的摆放位置。

　　B、空调机组与空调处理机组要集中布置。

　　C、造价较低。

净化工程

　　三、光学微电子行业净化工程设计方案分析之分体空调柜机++FFU送风口

　　1、优点：

　　A、不需要占用机房面积，布置灵活。

　　B、可以满足空气的洁净度。

　　C、造价最低。

　　D、送风均匀度好。

　　2、缺点：

　　A、温湿度控制较差。

　　B、可以满足空气的洁净度。

　　C、FFU的维修频率高。

净化工程

　　四、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点

　　1、洁净度：

　　LCD制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检

　　2、室内空气参数要求：

　　A、温湿度要求：温度一般为24+2℃，相对湿度为55+5%。

　　B、新风量大。

　　C、送风量大。

　　净化工程的设计过程中，应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据光学微电子净化工程是新建工程或者是旧厂房改造工程，并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况，同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力，综合各种因素来确定采用何种净化方案，这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。