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关于净化工程几种解决方案分析
缩放字号:[小] [大] 发布时间:2015-02-26 10:34

  光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来,由于技术创新发展,对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切,如超大型电路之研究制造,已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目。

 

净化工程

 

净化工程

 

  一、组合式空气处理机组+冷水机组+高效送风口

 

  1、优点:

  A、空气处理效果好。

  B、比较适用于有集中冷源的或是较大的净化车间

  C、空调冷热源可与厂房普通空调系统合用或独立冷热源。

  D、维修频率较低。

  E、车间的噪音低。

  2、缺点:

  A、需要有配套的冷冻机房或有放置热泵机组的室外空间。

  B、造价高。

 

净化工程

 

净化工程

 

  二、光学微电子行业净化工程设计方案分析之水冷柜机+增压风柜+高效送风口

 

  1、优点:

  A、空气处理效果较好的,处理过后的空气在送风过程中被污染程度低。

  B、布置灵活。自带冷源。

  C、大小厂房、新旧厂房都适用。

  D、维修频率较低。

  E、车间噪音低。

  2、缺点:

  A、需要小面积的机房。需要有冷却塔、冷却水泵的摆放位置。

  B、空调机组与空调处理机组要集中布置。

  C、造价较低。

 

净化工程

 

净化工程

 

  三、光学微电子行业净化工程设计方案分析之分体空调柜机++FFU送风口

 

  1、优点:

  A、不需要占用机房面积,布置灵活。

  B、可以满足空气的洁净度。

  C、造价最低。

  D、送风均匀度好。

  2、缺点:

  A、温湿度控制较差。

  B、可以满足空气的洁净度。

  C、FFU的维修频率高。

 

净化工程

 

净化工程

 

  四、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点

 

  1、洁净度:

  LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检

  2、室内空气参数要求:

  A、温湿度要求:温度一般为24+2℃,相对湿度为55+5%。

  B、新风量大。

  C、送风量大。

  净化工程的设计过程中,应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据光学微电子净化工程是新建工程或者是旧厂房改造工程,并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况,同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力,综合各种因素来确定采用何种净化方案,这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。